半導体製造用・冶金用製品｜製品情報

イビデンでは、汎用材から高級材まで、
産業界の多様なニーズに応えるグラファイトを提供しています。

半導体製造用、冶金用グラファイト

金属やセラミックスの特性を併せ持つファインな材料として、産業界の多様なニーズに対応し、素材技術、高精度加工技術、超高純度化技術、表面処理技術を活かし、半導体製造装置用部材や、エネルギー関連部材、電子部品用治具、耐熱用部材など様々な用途に使用され、あらゆる先端産業の発展に大きく貢献しております。

低放出ガス特性や高純度性、高耐久性など優れた特性を持ち、特にシリコンウェハーの製造工程において、品質の向上に貢献します。

シリコン、化合物半導体製品の品質のキーとなる単結晶成長炉、エピタキシャル成長装置、イオン注入装置の部材において、表面処理技術が力を発揮します。

グラファイト素材の持つ機能性を十分に活かし、太陽電池、燃料電池などの各種エネルギー関連部材として優れた特性を示します。

ダイオード等の電子部品の組み立て用においては高精度に加工されたグラファイト治具が使用されます。

ホットプレス鋳型用、連続鋳造用、高温炉用の発熱、耐熱部材として導電性、高温特性を持つグラファイト部材が使用されます。